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P+F倍加福硅片檢測過程

2017-06-13      1529

P+F倍加福硅片檢測過程

    自“一帶一路”倡議提出以來,中國致力于發(fā)展綠色絲綢之路,加強與沿線國家的合作,促進共同發(fā)展。光伏也成為了“一帶一路”上類似高鐵、核電等優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)走出去的一部分,在沿線國家及區(qū)域的可再生能源應用上也起到了巨大推動作用。
    太陽能以其無污染、可持續(xù)、總量大、分布廣等優(yōu)點頗受青睞。不止是建筑用,從光伏與農(nóng)業(yè)的結合到3C產(chǎn)品,太陽能的利用已深入到日常生活的方方面面,而保障太陽能的應用,光伏材料——硅片是源頭。一方面,硅片的內(nèi)部缺陷和雜質(zhì)會直接影響電池的效率和穩(wěn)定性,另一方面,硅片的外觀缺陷和表面質(zhì)量對電池的制造和外觀也有直接的影響。
    從硅礦石的提煉到硅片的生產(chǎn)以及電池片的加工運輸過程,如何實現(xiàn)并確保硅片的完整性?檢測設備如何、地測出壞損?

加快檢測過程的響應時間
倍加福扁平型光電R2F/R3F具有Powerbeam清晰紅光和Durabeam激光兩種可選光源,紅光漫反射0.5ms和激光漫反射0.25ms的快速響應時間大大提高了設備的運行速率,保證了客戶的高產(chǎn)能需求。
穩(wěn)定檢測硅片
硅片的檢測從光伏產(chǎn)業(yè)上游貫穿到中游,在各種硅片自動化設備中都顯得非常重要,尤其是硅片經(jīng)化學處理(如清洗、擴散、蝕刻等)后其反射率會有較大的改變。倍加福扁平式光電R2F/R3F具有的背景抑制功能,在檢測過程中幾乎不受硅片的反射率影響,保證了硅片檢測的可靠性。
提高定位精度
新型激光技術DuraBeam Laser也使得R2F/R3F成為市場上zui為扁平的激光產(chǎn)品。DuraBeam激光是充分結合了LED光源和激光傳感器的優(yōu)點,具有更長的使用壽命。與傳統(tǒng)激光相比,DuraBeam激光光斑小而且呈現(xiàn)圓形,這對于硅片的定位檢測來說具有兩大優(yōu)勢:一,對傳感器安裝方位無要求;二,小光點提高了定位的精度要求。

R2R3系列產(chǎn)品完善,為多樣化的應用需求提供的解決方案
創(chuàng)新的DuraBeam激光技術,提高產(chǎn)品的耐用性,適合用在較寬的溫度范圍
背景抑制型漫反射傳感器,能可靠地檢測目標物,屏蔽背景
反射板型傳感器,通過降低接線成本,高性價比,可有效替換對射型產(chǎn)品
防靜電耐刮擦鏡片,保證了產(chǎn)品的耐用性,并不受偶爾碰撞的影響,防止灰塵吸附。

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